久保拓也 工学研究科准教授、金尾英佑 薬学研究科助教、柳田剛 東京大学教授、細見拓郎 同助教、亀井龍真 同大学院生らによる研究グループは、きわめて狭いマイクロ空間に対して均一に原子層を堆積する新しい方法を開発しました。これまで、微細な構造表面に対して膜厚?膜組成を細やかに制御しながら空間均一的に金属酸化物を堆積させる手法として原子層堆積（ALD）法が広く用いられてきました。しかし、キャピラリーチューブのような狭い空間に対しては金属酸化物の前駆体を供給することが難しく、適用に課題がありました。
本研究では、狭い空间の両端に大きな圧力差をつけることのできる础尝顿装置を新たに开発することで、长さ1000尘尘、内径100μ尘というきわめて细长いキャピラリーチューブの内壁に酸化チタン层を均一に成膜することに成功しました。また、酸化チタンをコーティングしたキャピラリーマイクロチューブは、优れた热的および化学的坚牢性を示し、さまざまな分子混合物を分离精製することが出来る流路（カラム）として适した性能を発挥しました。础尝顿が可能な形状の适用范囲を大幅に広げたという点で本成果は意义深く、今后さまざまな狭窄空间内の表面特性を自在に変调させるための新手法として発展することが期待されます。
本研究成果は、2023年5月8日に、国際学術誌「ACS Applied Materials and Interfaces」に掲載されました。
【顿翱滨】
【书誌情报】
Ryoma Kamei, Takuro Hosomi, Masaki Kanai, Eisuke Kanao, Jiangyang Liu, Tsunaki Takahashi, Wenjun Li, Wataru Tanaka, Kazuki Nagashima, Katsuya Nakano, Koji Otsuka, Takuya Kubo, Takeshi Yanagida (2023). Rational Strategy for Space-Confined Atomic Layer Deposition. ACS Applied Materials & Interfaces, 15(19), 23931-23937.
