「次世代低炭素ナノデバイス创製ハブ拠点」开所式を开催しました。（2011年5月26日）
ハブ拠点 加工?評価室
本学では、「次世代低炭素ナノデバイス創製ハブ拠点」の開所式を開催しました。このハブ拠点は、文部科学省の「成長戦略への布石」である「環境?エネルギー技術への挑戦」の一環として設立された「低炭素社会構築に向けた研究基盤ネットワークの整備」事業で整備されたものです。開所式では、松本紘 総長の挨拶に続き、柿田恭良 文部科学省研究振興局基盤研究課長より祝辞をいただきました。また、松本総長ら3名によるテープカットが行われ、ハブ拠点の完成を祝いました。
引き続き、施设が公开されると、参加者はクラス100のクリーン度を有したイエロールームや最先端の微细加工装置の装置群などを热心に见学していました。
本拠点は、東京大学および物質?材料研究機構とともにハブ拠点として、環境?エネルギー技術開発における共通基礎課題に集中的に取り組むことにより、大きな技術革新のシーズを創出することを目指しています。また、最先端機器を集中的に整備することにより、優れた研究成果?技術シーズを有する大学?研究機関（サテライ ト拠点）を支援していきます。
特に本学では、低炭素社会の実现に必要不可欠なエネルギーを「创る」「蓄える」「使う」「戻す」の4领域における、様々な革新的次世代材料?ナノマイクロデバイスの研究开発を加速するため、ウェハスケールで多种基盘材料?薄膜材料をナノマイクロ加工できる装置环境を提供し、低炭素化を早期に実现する学术研究?応用研究?开発研究と学から产业界への技术移転等に寄与します。
 挨拶をする松本総长 |
 祝辞を述べられる柿田研究振兴局基盘研究课长 |
 左から柿田研究振興局基盤研究課長、松本総長、西阪昇 理事?副学長 |
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